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芯片工艺又有重大突破 IBM表示5nm制程将成为现实

2017-06-06 14:42
汉水狂客
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IBM在芯片技术上又有了新的突破,今天IBM宣布将为5nm芯片工艺研发新型晶体管。15年7月IBM完成了首款7nm工艺芯片的制作,采用了7nm FinFET工艺和EUV极紫外光刻技术。

目前,手机处理器芯片最好的工艺是10nm的制程,采用了10nm工艺的骁龙835处理器相比14nm工艺的骁龙821处理器速度快27%,效率提升40%。IBM表示,5nm工艺可以在指甲大小的芯片上放置300亿个晶体管。与市面上领先的10nm技术相比,基于纳米片的5nm技术可以在固定功率下提供40%的性能提升,或者在匹配性能下可节省75%的功耗。

相关人士表示,5nm工艺的芯片不久将会实现,得益于性能的提高和功耗的降低,相信手机续航能力上会有不小的提升。

声明: 本文由入驻维科号的作者撰写,观点仅代表作者本人,不代表OFweek立场。如有侵权或其他问题,请联系举报。

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