光刻
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又有新对策?俄罗斯放狠话称自研7nm光刻机将于2028年问世
10月22日消息,一家俄罗斯研究所正在开发自己的半导体光刻设备,该设备可以被用于7nm制程芯片的制造。该研究院称自行研发的光刻机将于2028年问世,目前该设备正在开发中。并且,这家俄罗斯研究院表示,当
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摆脱EUV光刻机限制!国内首条光子芯片产线即将建成
据国内相关媒体近日报道,中科鑫通“多材料、跨尺寸”光子芯片生产线预计将于2023年在北京建成。该生产线完工后,能满足通信、数据中心、激光雷达、微波光子、医疗检测等领域的市场需求,将填补我国在光子芯片晶圆代工领域的空白,有望加速国产光子芯片替代的规模化进程
光子芯片 2022-10-19 -
远超EUV光刻机!这家美国公司造出了0.7nm芯片,仅2个硅原子宽度!
近日,芯片圈又有了技术大突破!美国一家公司Zyvex宣布其使用电子束光刻技术制造了768皮米,也就是0.7nm的芯片。0.7nm芯片是什么概念?这代表了目前世界上最先进的芯片光刻技术出炉了!可以说当EUV光刻机还在为制造2nm、1nm芯片发愁的时候,这家美国公司已在另一个先进光刻方向上取得质的突破
0.7nm芯片 2022-09-26 -
大势已去!传台积电计划年底关闭部分EUV光刻机
近日,有消息称,台积电计划将于年底关闭部分EUV光刻机。何为EUV光刻机?相关资料显示,光刻机是芯片制造过程中不可或缺的重要设备。越高端的芯片,其对光刻机的要求也就越高。比如,生产7nm及以下的芯片,必须要用到EUV光刻机
EUV光刻机 2022-09-06 -
“全球最受尊敬企业”排行,光刻机厂商ASML夺冠
C114讯 9月10日消息(南山)日前,未砥放浦担Future Brand Index)发布了2021年的百大品牌榜单。全球领先的光刻机制造商ASML力压苹果,排名榜首。此外,中国台湾的晶圆制造商台积电位居第6,相比上一届的第25名大幅提升
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台积电越来越依赖ASML的EUV光刻机:3nm需要20层
台积电是第一家将EUV(极紫外)光刻工艺商用到晶圆代工的企业,目前投产的工艺包括N7+、N6和N5三代。其中N7+即第二代7nm,EUV总计4层。即便如此,这也相较于多重曝光也节省了时间,提高了芯片的生产效率
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光刻机的国产化进程:国内攻城略地,人才资本的博弈
前言:最近美国的禁令让中国整个半导体行业都蒙上了一层阴影。而最为要紧的是光刻机的国产化进程。芯片制造设备比重突出据Semi统计,2019年全球半导体设备市场达597.4亿美元,设备投资占晶圆厂整体资本支出的70%-80%,其中用于芯片制造的设备占半导体设备总支出的81%
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