光刻机
光刻机(Mask Aligner)是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。其分为两种,一种是模板与图样大小一致的contact aligner,曝光时模板紧贴晶圆;另一种是利用类似投影机原理的stepper,获得比模板更小的曝光图样。高端光刻机被称为“现代光学工业之花查看详情>”,制造难度很大,全世界只有少数几家公司能制造。
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美国太空部队选定三家企业开发激光通信终端原型机
近日,美国太空军空间系统司令部(SSC)宣布,已授予CACI、通用原子公司和Viasat公司开发合同,继续推进价值1亿美元的"企业空间终端"(EST)项目第二阶段工作。
光通信 2025-05-15 -
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ASML措手不及,所有EUV光刻机都卖不出,不卖中国还能卖给谁?
之前ASML还曾对自家的2纳米EUV光刻机信心满满,但是随着市场逐渐明朗,如今它正陷入窘境,那就是第一代EUV光刻机和最新的2纳米EUV光刻机都面临无人购买的境况,而对EUV光刻机有强烈需求的中国又不许卖
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