光刻胶
光刻胶（Photoresist），别称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。它是由感光树脂、增感剂和溶剂组成的对光敏感的混合液体。在光刻工艺过程中，用作抗腐蚀涂层材料。半导体材料在表面加工时，若采用适当的有选择性的光查看详情>刻胶，可在表面上得到所需的图像。
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ASML措手不及，所有EUV光刻机都卖不出，不卖中国还能卖给谁？
之前ASML还曾对自家的2纳米EUV光刻机信心满满，但是随着市场逐渐明朗，如今它正陷入窘境，那就是第一代EUV光刻机和最新的2纳米EUV光刻机都面临无人购买的境况，而对EUV光刻机有强烈需求的中国又不许卖
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