2012年亚微米级光连接技术在FTTH和数据中心的应用
2012-01-17 16:06
来源：
C114
引言：在移动互联网、下一代互联网（NGN）、“三网融合”、IPTV等新兴市场机会的推动下，光传输网络进行大规模的升级和改造，中国的光通信产业迎来了史无前例的发展机会。
同时国家政策的支持对信息产业的大力发展也产生了促进作用，“十二五”规划明确提出了光纤宽带战略性大规模发展的目标。电信运营商大幅加快光纤入户宽带建设和用户发展，光通信产业在“十二五”期间将有爆发性的增长。
随着FTTH的迅速普及以及数据中心的大规模部署，光连接器作为亚微米级高精度定位所必需的部件，机会逐渐增多，亚微米光连接技术迅速发展。当前，中国的亚微米光连接技术产品已基本摆脱依靠进口的局面，基本形成大规模制造供应链。
亚微米级光连接技术指标：
亚微米级光连接技术由IEEE802.3标准规范引导，它规范了光功率分布中的光连接器的最大接插损耗：全温度、全湿度、全寿命、粉尘、震动及各种恶劣环境下，0.7dB。因此，连接器插损指标出厂时一般要求在典型值0.2dB。
图1，IEEE802.3标准规范引导光功率损耗分布
（C114注：本文所有图片均由同星光电提供）
亚微米级光连接性能衡量指标主要有：衰减光纤的对中几何尺寸，几何精度又决定于装配精度和其它零部件尺寸精度。如下图所示：大于微米横向错位误差是造成光学损耗最大杀手。
图2，横向错位误差是造成光学插损计算
图3，理论和实验证明亚微米是光连接最佳耦合区
亚微米级光连接技术要素
超精密加工种类：指标如下图所示：
图4，亚微米光连接技术中超精密加工种类
超精密加工容限水平及进展
图5，亚微米光连接技术中超精密加工极限
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